Analytik Jena Plasma­Quant 9200 ICP/OES -laitteisto

Kompakti koko. Maksi­maalinen suoritus­kyky.

Tämä ICP-OES-laitteisto on suunniteltu käyttäjille, joilla on korkeat vaatimukset mittaustarkkuuden, toistettavuuden ja herkkyyden suhteen. Laitteisto soveltuu erinomaisesti tutkimukseen, laadunvarmistukseen sekä näytematriiseiltaan haastaviin analyyseihin.

Analyyttista huippu­osaamista

PlasmaQuant 9200 -järjestelmässä yhdistyvät korkea spektrinen erotuskyky (2 pm @ 200 nm) ja hyvä matriisinsietokyky, mikä tukee vaativien näytteiden kvantitatiivista analyysiä vaihtelevissa olosuhteissa

• Spektrialue 160–900 nm kattaa laajasti alkuaineiden pääemissioalueet ja soveltuu monipuolisiin analyyttisiin tarpeisiin
• Spektrinen erotuskyky 2 pm @ 200 nm mahdollistaa lähellä toisiaan olevien emissioviivojen erottamisen
• Alhaiset määritysrajat ja hyvä mittaustulosten toistettavuus tukevat pitkäaikaista käyttöä ilman jatkuvaa uudelleenkalibrointia

Tehoa tilaa säästäen

Nopea käynnistys, kestävä plasma ja alan pienin tilantarve – PlasmaQuant 9200 säästää aikaa, rahaa ja arvokasta laboratorion tilaa.

• Yli 40 % pienempi koko kuin aiemmissa malleissa – vain 60 cm leveä
• Plasmateho jopa 1700 W – hallitsee vaativimmatkin matriisit
• Käyttövalmis alle 10 minuutissa – säästää aikaa analyysipäivän alussa

Yksinkertai­sesti luotettava

Helppo käyttö, kätevä kulutusosien vaihto ja pitkä käyttöikä.

• Modulaarinen torch-rakenne – jokaiselle näytetyypille paras materiaali
• Dual View Plus – optimaalinen havaintotapa jokaiselle näytteelle
• Laatua Saksasta – käyttäjien testaamaa, pitkäikäistä saksalaista suunnittelua